2020/07/30

空降污染物對潔淨製程之影響與因應策略(9/15-新竹場)

在光電半導體的製程中,AMC是影響良率的重要關鍵因子。本次研討會主要是在說明潔淨環境中空降污染分子分類與濃度等級以及空降污染分子對製程的影響,同時對於製程良率穩定之生產者建議規劃定期檢測計劃,為您提供檢測與數據分析,以確保產品品質!!

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誠摯的邀請您參與此場研討會,讓您與相關產業的先進共同探討針對空降污染物對潔淨製程之影響,進而規劃建立完整品檢機制,提升生產製造環境品質使產品更具有市場競爭力。

 

  • 費  用:免費
  • 日  期:2020/09/15(二)
  • 時  間:13:40-16:20
  • 上課地點:集思竹科會議中心 - 愛迪生廳 (新竹市科學園區工業東二路1號 - 科技生活館)
  • 線上報名:https://twap.sgs.com/sgsrsts/Signup/

 

議程表:

時間 主題 演講者
13:00~13:20 入席 (請惠賜名片一張)
13:20~13:30 Opening Remark 黃進輝 協理
13:30~14:20 潔淨環境中空降污染分子分類與濃度等級
for: semi F21 & ISO 14644-1~14
簡士政 博士
14:20~15:10 空降污染分子對製程的影響
(1) 空降污染分子對不同製程造成的傷害
(2) 案例說明
(3) 各種空降污染分子來源
李宗河 經理
15:10~15:25 茶敘交流
15:25~16:10 空降污染分子解決方案
(1) 如何預防產生空降污染分子
(2) 廠區監控規劃
(3) 檢測與數據分析
(4) 優惠配套方案
李宗河 經理
16:10~16:30 Q & A

 

半導體超微量分析服務〈南科〉
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