氣體輸送閥件潔淨度成半導體汙染控制新焦點
隨著AI晶片、高效能運算與先進封裝技術快速發展,半導體對潔淨度管理的要求持續提升,污染控制已不再侷限於無塵室環境,氣體供應管路、閥件、接頭等關鍵零組件,皆可能成為微粒或化學污染來源,進而影響晶圓缺陷率與良率表現。SEMI F70、F70.1、E66及ISO14644標準,幫助建立標準化測試方法,有利分層掌握廠房環境、氣體輸送系統與元件潔淨度表現。SGS可透過標準測試方法與專案式服務,協助客戶強化整體污染控管能力。

AI 晶片需求推升潔淨管理與數據化驗證
AI、高效能運算與先進封裝需求快速成長,使晶片結構更複雜,對製程穩定性與產品可靠度的要求同步提高。對晶片製造而言,任何微小污染都可能影響關鍵製程窗口、電性表現與長期可靠度。因此,半導體業者需透過標準化潔淨度測試、數據化監控與製程風險分析,從無塵室、氣體輸送系統到單一元件進行分層管理,建立更完整的污染控制策略。
汙染控制不再只看無塵室環境
隨著半導體先進製程持續微縮,微粒、金屬離子與分子污染對元件良率的影響日益提高。過去汙染控制多聚焦於無塵室周界環境,例如空氣潔淨度、溫濕度、人員動線與設備區域管理。製程或清潔氣體在進入反應腔體前,仍會經過管路、閥件、接頭、過濾器、壓力調節器與質量流量控制等多項元件。若氣體輸送元件內部潔淨度不足,或在操作過程中釋放微粒,仍可能成為晶圓缺陷、製程漂移與良率波動的來源。透過測試掌握氣體輸送系統與關鍵元件的污染貢獻,有利於及早識別潛在污染源。
SEMI standards協助建立系統與元件標準化測試方法
- 半導體汙染控制可從「環境潔淨度」、「系統潔淨度」與「元件潔淨」等面向著手。
- SEMI F70 量測氣體輸送系統在氣體流經過程中所增加的粒子數,亦即系統本身對氣體造成的微粒貢獻,可掌握製程整體輸送系統的潔淨表現。
- SEMI F70.1著重在氣體輸送系統或其零組件執行切換動作時,對流經氣體所增加的粒子數量。
- SEMI E66針對質量流量控制器(MFC)關鍵元件, 透過穩態控制、動態控制、purge mode等模式,評估 MFC在高純度氣體系統中所造成的粒子貢獻量。
- 透過標準化測試,可更客觀比較氣體輸送系統與不同元件的潔淨度表現,降低污染風險。
SGS 可提供服務
SGS 可協助半導體業者從廠房環境、製程氣體、材料與元件層級進行污染風險評估。
服務範圍可涵蓋粒子與化學污染監測與定量分析、敏感製程區域污染影響評估、濾網效能驗證、製程污染異常診斷、零組件專案測試。
- ISO 16232零組件或接觸材料表面潔淨度
- ISO 14644-14 設備動態發塵
- IEST-RP-CC003.3 無塵用品微粒子測試
- IPC-TM-650 2.3.25 ROSE test
- C3電子零組件潔淨度
- ISO 14644 無塵室環境監測
- VDI 2083-17材料Outgassing測試
- ASTM E595 真空環境釋氣測試
- IPC-TM-650 2.3.38 非揮發性殘留物