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2026/07/03

氣體輸送閥件潔淨度成半導體汙染控制新焦點

隨著AI晶片、高效能運算與先進封裝技術快速發展,半導體對潔淨度管理的要求持續提升,污染控制已不再侷限於無塵室環境,氣體供應管路、閥件、接頭等關鍵零組件,皆可能成為微粒或化學污染來源,進而影響晶圓缺陷率與良率表現。SEMI F70、F70.1、E66及ISO14644標準,幫助建立標準化測試方法,有利分層掌握廠房環境、氣體輸送系統與元件潔淨度表現。SGS可透過標準測試方法與專案式服務,協助客戶強化整體污染控管能力。

氣體輸送閥件潔淨度成半導體汙染控制新焦點

AI 晶片需求推升潔淨管理與數據化驗證 

AI、高效能運算與先進封裝需求快速成長,使晶片結構更複雜,對製程穩定性與產品可靠度的要求同步提高。對晶片製造而言,任何微小污染都可能影響關鍵製程窗口、電性表現與長期可靠度。因此,半導體業者需透過標準化潔淨度測試數據化監控與製程風險分析從無塵室、氣體輸送系統到單一元件進行分層管理,建立更完整的污染控制策略

 

汙染控制不再只看無塵室環境 

隨著半導體先進製程持續微縮,微粒、金屬離子與分子污染對元件良率的影響日益提高。過去汙染控制多聚焦於無塵室周界環境,例如空氣潔淨度、溫濕度、人員動線與設備區域管理。製程或清潔氣體在進入反應腔體前,仍會經過管路、閥件、接頭、過濾器、壓力調節器與質量流量控制等多項元件。若氣體輸送元件內部潔淨度不足,或在操作過程中釋放微粒,仍可能成為晶圓缺陷、製程漂移與良率波動的來源透過測試掌握氣體輸送系統與關鍵元件的污染貢獻,有利於及早識別潛在污染源。

 

SEMI standards協助建立系統與元件標準化測試方法 

  • 半導體汙染控制可從「環境潔淨度」、「系統潔淨度」與「元件潔淨」等面向著手
  • SEMI F70 量測氣體輸送系統在氣體流經過程中所增加的粒子數亦即系統本身對氣體造成的微粒貢獻,可掌握製程整體輸送系統的潔淨表現。
  • SEMI F70.1著重在氣體輸送系統或其零組件執行切換動作時對流經氣體所增加的粒子數量
  • SEMI E66針對質量流量控制器(MFC)關鍵元件, 透過穩態控制、動態控制、purge mode等模式,評估 MFC在高純度氣體系統中所造成的粒子貢獻量。
  • 透過標準化測試,可更客觀比較氣體輸送系統與不同元件的潔淨度表現,降低污染風險。

 

SGS 可提供服務

SGS 可協助半導體業者從廠房環境、製程氣體、材料與元件層級進行污染風險評估。

服務範圍可涵蓋粒子與化學污染監測與定量分析、敏感製程區域污染影響評估、濾網效能驗證製程污染異常診斷、零組件專案測試

  • ISO 16232零組件或接觸材料表面潔淨度
  • ISO 14644-14 設備動態發塵
  • IEST-RP-CC003.3 無塵用品微粒子測試
  • IPC-TM-650 2.3.25 ROSE test 
  • C3電子零組件潔淨度
  • ISO 14644 無塵室環境監測
  • VDI 2083-17材料Outgassing測試
  • ASTM E595 真空環境釋氣測試
  • IPC-TM-650 2.3.38 非揮發性殘留物 

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